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Pi COAT前清洗設(shè)備
1．設(shè)備概要
本設(shè)備通過清洗、噴淋、風(fēng)刀等過程洗凈基板，并通過IR、UV去除水分，從而提高基板表面的浸潤性，冷卻基板溫度通過后續(xù)的TBL進(jìn)入COAT設(shè)備。
上料機(jī)、TBL、下料機(jī)等設(shè)備，根據(jù)客戶的線體構(gòu)成、印刷設(shè)備等具體情況而定。
2．設(shè)備規(guī)格
（1）處理對象：STN液晶用玻璃板
（2）處理目的：清洗、干燥
（3）對象尺寸：14″×16″，17″，T=0.4、0.55、0.7、1.1mm
（4）籃子規(guī)格：貴公司提供
（5）基板傳送方向：從左到右，或從右到左
（6）設(shè)備外形尺寸：約10450×1400×1650mm
（7）干燥重量：約5200Kg
（8）基板傳送高度：從地面至基板下面為900mm
（9）傳送方式：水平枚葉式傳送方式
（10）傳送滾輪間距：基本為80mm
（11）處理時間：標(biāo)準(zhǔn)17秒/塊標(biāo)準(zhǔn)傳送速度約2.1m/分鐘
（12）啟動準(zhǔn)備時間：啟動后約60分鐘
3．所需電力
（1）主機(jī)：3P，380V，50Hz，約130kWA
（2）合計：約130kVA
（3）純水用量：約32L/min，0.15Mpa G，電阻值10MΩ/cm以上
（4）冷卻水用量：約12L/min，0.15MpaG無背壓，約17℃
（5）空氣用量：約4200NL/min，0.4～0.5Mpa G，潔凈干燥氣
P/R前清洗設(shè)備
1．設(shè)備概要
本設(shè)備通過清洗、噴淋、風(fēng)刀洗凈基板，并通過IR、UV去除水分，從而提高基板表面的浸潤性，冷卻基板溫度通過后續(xù)的TBL入COAT設(shè)備。上料機(jī)、TBL、下料機(jī)等設(shè)備，根據(jù)貴公司的線體構(gòu)成、印刷設(shè)備等具體情況而定。
2．設(shè)備規(guī)格
（1）處理對象：STN液晶用玻璃板
（2）處理目的：清洗、干燥
（3）玻璃尺寸： 14″×16″，17″，T=0.4、0.55、0.7、1.1mm
（4）籃子規(guī)格：貴公司提供
（5）基板傳送方向：從左到右，或從右到左
（6）設(shè)備外形尺寸：約11840×1400×1650mm
（7）干燥重量：約7500Kg
（8）基板傳送高度：從地面至基板下面為900mm
（9）傳送方式：水平枚葉式傳送方式
（10）傳送滾輪間距：基本為80mm
（11）處理時間：標(biāo)準(zhǔn)17秒/塊標(biāo)準(zhǔn)傳送速度 約2.1米/分鐘
（12）啟動準(zhǔn)備時間：啟動后約60分鐘
3．外供電源
（1）主機(jī)：3相，380V，50Hz，約137kWA
（2）合計：約137kVA
（3）純水用量:約32L/min，0.15Mpa G，電阻值10MΩ/cm以上
（4）冷卻水用量:約12L/min，0.15Mpa G無背壓，約17℃
（5）空氣用量:約4200NL/min，0.4～0.5Mpa G，潔凈干燥氣
TOP－COAT前清洗設(shè)備
1．設(shè)備概要
本設(shè)備通過清洗、噴淋、風(fēng)刀洗凈基板，并通過IR、UV去除水分，從而提高基板表面的浸潤性，冷卻基板溫度通過后續(xù)的TBL入COAT設(shè)備。上料機(jī)、TBL、下料機(jī)等設(shè)備，根據(jù)貴公司的線體構(gòu)成、印刷設(shè)備等具體情況而定。
2．設(shè)備規(guī)格
（1）處理對象：STN、CSTN液晶用玻璃板
（2）處理目的：清洗、干燥
（3）玻璃尺寸： 14″×16″，17″，t＝0.4、0.55、0.7、1.1mm
（4）籃子規(guī)格：貴公司提供(調(diào)試時最少需要2個)
（5）基板傳送方向：從左到右，或從右到左
（6）設(shè)備外形尺寸：約10450×1400×1650mm
（7）干燥重量：約5200Kg
（8）基板傳送高度：從地面至基板下面為900mm
（9）傳送方式：水平枚葉式傳送方式
（10）傳送滾輪間距：基本為80mm
（11）處理時間：標(biāo)準(zhǔn)18秒/塊標(biāo)準(zhǔn)傳送速度 約2.1米/分鐘
（12）啟動準(zhǔn)備時間：啟動后約60分鐘
3．外供電源
（1）主機(jī)：3相，380V，50Hz，約130kWA
（2）合計：約130kVA
（3）純水用量：約32L/min，0.15Mpa G，電阻值10MΩ/cm以上
（4）冷卻水用量：約12L/min，0.15Mpa G無背壓，約17℃
（5）空氣用量：約4200NL/min，0.4～0.5Mpa G，潔凈干燥氣
（6）真空用量：約30L/min，－67kPa
蝕刻設(shè)備
1．設(shè)備概要
本設(shè)備對應(yīng)ITO膜厚，利用四個區(qū)的蝕刻單元實(shí)施處理，根據(jù)膜厚不同，通過開關(guān)選擇，切換氣閥等管路系統(tǒng)。通過噴淋、傾斜和風(fēng)刀去除液體，從而實(shí)現(xiàn)ITO膜的蝕刻過程。為對應(yīng)彩色基板，可使用50℃（MAX55℃）液溫的蝕刻液（鹽酸、DIW、氯化鐵）。
2．設(shè)備規(guī)格
（1）處理對象：STN、CSTN液晶用玻璃板
（2）處理目的：ITO膜蝕刻，干燥
（3）玻璃尺寸： 14″×16″，17″，T=0.4、0.55、0.7、1.1mm
（4）籃子規(guī)格：貴公司提供
（5）基板傳送方向：從左到右，或從右到左
（6）設(shè)備外形尺寸：約11380×1400×1650mm
（7）干燥重量：約7000Kg
（8）基板傳送高度：從地面至基板下面為900mm
（9）傳送方式：水平枚葉式傳送方式
（10）傳送滾輪間距：基本為80mm
（11）處理時間：標(biāo)準(zhǔn)17秒/塊；標(biāo)準(zhǔn)傳送速度約2.1m/分
（12）啟動準(zhǔn)備時間：啟動后約60分鐘
3．外供電源
（1）主機(jī)：3相，380V，50Hz，約58kWA
（2）純水用量：約32L/min，0.15Mpa G，電阻值10MΩ/cm以上
（3）冷卻水用量：約0L/min
（4）空氣用量：約2500NL/min，0.4～0.5Mpa G，潔凈干燥氣
脫膜設(shè)備
1．設(shè)備概要
本設(shè)備通過使用堿性脫膜液去除光刻膠，之后有噴淋、風(fēng)刀等除液單元。脫膜液濃度、處理等具體規(guī)格需和用戶具體商定。需根據(jù)溶液中的光刻膠含有率，定期更換液體。
2．設(shè)備規(guī)格
（1）處理對象：STN、CSTN液晶用玻璃板
（2）處理目的：光刻膠脫膜、干燥
（3）玻璃尺寸：14″×16″，17″，T=0.4、0.55、0.7、1.1mm
（4）籃子規(guī)格：貴公司提供
（5）基板傳送方向：從左到右，或從右到左
（6）設(shè)備外形尺寸：約9360×1400×1650mm
（7）干燥重量：約5000Kg
（8）基板傳送高度：從地面至基板下面為900mm
（9）傳送方式：水平枚葉式傳送方式
（10）傳送滾輪間距：基本為80mm
（11）處理時間：標(biāo)準(zhǔn)17秒/塊，標(biāo)準(zhǔn)傳送速度約2.1m/分鐘
（12）啟動準(zhǔn)備時間：啟動后約60分鐘
3．外供電源
（1）主機(jī)：3相，380V，50Hz，約80kWA
（2）純水用量：約32L/min，0.15Mpa G，電阻值10MΩ/cm以上
（3）冷卻水用量：約0L/min
（4）空氣用量：約2500NL/min，0.4～0.5Mpa G，潔凈干燥氣
顯影設(shè)備
1．設(shè)備概要
為達(dá)到均勻顯影的效果，本設(shè)備通過通過SlitSW進(jìn)行顯影，然后通過Swing SW加強(qiáng)顯影效果，最后使用噴淋和風(fēng)刀去除液體。須根據(jù)液體中的光刻膠含有率情況，定期更換液體。
2．設(shè)備規(guī)格
（1）處理對象：STN液晶用玻璃板
（2）處理目的：光刻膠顯影、干燥
（3）對象尺寸等：14″×16″，17″，T=0.4、0.55、0.7、1.1mm
（4）籃子規(guī)格：貴公司提供
（5）基板傳送方向：從左到右，或從右到左
（6）設(shè)備外形尺寸：約7270×1400×1650mm
（7）干燥重量：約4200Kg
（8）基板傳送高度：從地面至基板下面為900mm
（9）傳送方式：水平枚葉式傳送方式
（10）傳送滾輪間距：基本為80mm
（11）處理時間：標(biāo)準(zhǔn)17秒/塊，標(biāo)準(zhǔn)傳送速度約2.1m/分鐘
（12）啟動準(zhǔn)備時間：啟動后約60分鐘
3．外供電源
（1）主機(jī)：3相，380V，50Hz，約30kWA
（2）合計：約30kVA
（3）純水用量：約32L/min，0.15Mpa G，電阻值10MΩ/cm以上
（4）冷卻水用量：約0L/min
（5）空氣用量：約2100NL/min，0.4～0.5Mpa G，潔凈干燥氣
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