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产品型号：晶圆扩散前清洗台
产品代码：
产品价格：
折 扣 率： 0
最后更新：2025-09-17
关 注 度：28
生产企业：大正华嘉科技（香河）有限公司
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产品详细介绍晶圆扩散前清洗台
控制模式: 手动控制模式 自动控制模式； 设备形式: 室内放置型；制程应用： 蚀刻（微蚀刻）制程；去光阻清洗制程；去蜡（胶）清洗制程；精密清洗制程；光罩去光阻清洗制程； 适用对象：2-8inch蓝宝石晶片；2-6inch砷化镓晶片；2-8inch碳化硅晶片；其它衬底晶片；25 Pcs/cassette，1 cassette/ Batch  Or  2 cassette/ Batch； 选配模块：腐蚀液恒温系统；腐蚀液循环过滤系统；超（兆）声系统；全自动供液系统；更全面的全自动烘干系统；消防系统；可结合客户端通讯协定资料储存、CIM系统、资料分析储存建立管理； 机械臂装置：Robot的工艺路径种类：N种（设备出厂前载入PLC内）；机械手传送定位精度：≤0.3mm；机械臂走向：前后位移一对一；
转向、前后、左右、上下位移一对四；全程转向左右、前后、上下位移一对多槽等；设备制造：北京华林嘉业科技有限公司（CGB） |
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| 会员级别：免费会员 |
| 加入时间：2025-09-17
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