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折 扣 率: 0
最后更新:2025-03-27
关 注 度:120
生产企业:成都超迈光电科技有限公司
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产品详细介绍本设备主要用于半导体刻蚀,能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能,使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀,并形成可从衬底上移除的挥发性副产品,通过真空系统排出,特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。 刻蚀设备在半导体行业中占据着至关重要的地位,可以实现纳米级的精密刻蚀。对复杂微结构的器件加工,微电子器件的制造提供重要支持,在芯片领域发挥着关键作用。 |
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加入时间:2024-03-11
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