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Pi COAT前清洗设备

1．设备概要

本设备通过清洗、喷淋、风刀等过程洗净基板，并通过IR、UV去除水分，从而提高基板表面的浸润性，冷却基板温度通过后续的TBL进入COAT设备。

上料机、TBL、下料机等设备，根据客户的线体构成、印刷设备等具体情况而定。

2．设备规格

（1）处理对象：STN液晶用玻璃板

（2）处理目的：清洗、干燥

（3）对象尺寸：14″×16″，17″，T=0.4、0.55、0.7、1.1mm

（4）篮子规格：贵公司提供

（5）基板传送方向：从左到右，或从右到左

（6）设备外形尺寸：约10450×1400×1650mm

（7）干燥重量：约5200Kg

（8）基板传送高度：从地面至基板下面为900mm

（9）传送方式：水平枚叶式传送方式

（10）传送滚轮间距：基本为80mm

（11）处理时间：标准17秒/块标准传送速度约2.1m/分钟

（12）启动准备时间：启动后约60分钟

3．所需电力

（1）主机：3P，380V，50Hz，约130kWA

（2）合计：约130kVA

（3）纯水用量：约32L/min，0.15Mpa G，电阻值10MΩ/cm以上

（4）冷却水用量：约12L/min，0.15MpaG无背压，约17℃

（5）空气用量：约4200NL/min，0.4～0.5Mpa G，洁净干燥气

P/R前清洗设备

1．设备概要

本设备通过清洗、喷淋、风刀洗净基板，并通过IR、UV去除水分，从而提高基板表面的浸润性，冷却基板温度通过后续的TBL入COAT设备。上料机、TBL、下料机等设备，根据贵公司的线体构成、印刷设备等具体情况而定。

2．设备规格

（1）处理对象：STN液晶用玻璃板

（2）处理目的：清洗、干燥

（3）玻璃尺寸： 14″×16″，17″，T=0.4、0.55、0.7、1.1mm

（4）篮子规格：贵公司提供

（5）基板传送方向：从左到右，或从右到左

（6）设备外形尺寸：约11840×1400×1650mm

（7）干燥重量：约7500Kg

（8）基板传送高度：从地面至基板下面为900mm

（9）传送方式：水平枚叶式传送方式

（10）传送滚轮间距：基本为80mm

（11）处理时间：标准17秒/块标准传送速度 约2.1米/分钟

（12）启动准备时间：启动后约60分钟

3．外供电源

（1）主机：3相，380V，50Hz，约137kWA

（2）合计：约137kVA

（3）纯水用量:约32L/min，0.15Mpa G，电阻值10MΩ/cm以上

（4）冷却水用量:约12L/min，0.15Mpa G无背压，约17℃

（5）空气用量:约4200NL/min，0.4～0.5Mpa G，洁净干燥气

TOP－COAT前清洗设备

1．设备概要

本设备通过清洗、喷淋、风刀洗净基板，并通过IR、UV去除水分，从而提高基板表面的浸润性，冷却基板温度通过后续的TBL入COAT设备。上料机、TBL、下料机等设备，根据贵公司的线体构成、印刷设备等具体情况而定。

2．设备规格

（1）处理对象：STN、CSTN液晶用玻璃板

（2）处理目的：清洗、干燥

（3）玻璃尺寸： 14″×16″，17″，t＝0.4、0.55、0.7、1.1mm

（4）篮子规格：贵公司提供(调试时最少需要2个)

（5）基板传送方向：从左到右，或从右到左

（6）设备外形尺寸：约10450×1400×1650mm

（7）干燥重量：约5200Kg

（8）基板传送高度：从地面至基板下面为900mm

（9）传送方式：水平枚叶式传送方式

（10）传送滚轮间距：基本为80mm

（11）处理时间：标准18秒/块标准传送速度 约2.1米/分钟

（12）启动准备时间：启动后约60分钟

3．外供电源

（1）主机：3相，380V，50Hz，约130kWA

（2）合计：约130kVA

（3）纯水用量：约32L/min，0.15Mpa G，电阻值10MΩ/cm以上

（4）冷却水用量：约12L/min，0.15Mpa G无背压，约17℃

（5）空气用量：约4200NL/min，0.4～0.5Mpa G，洁净干燥气

（6）真空用量：约30L/min，－67kPa

蚀刻设备

1．设备概要

本设备对应ITO膜厚，利用四个区的蚀刻单元实施处理，根据膜厚不同，通过开关选择，切换气阀等管路系统。通过喷淋、倾斜和风刀去除液体，从而实现ITO膜的蚀刻过程。为对应彩色基板，可使用50℃（MAX55℃）液温的蚀刻液（盐酸、DIW、氯化铁）。

2．设备规格

（1）处理对象：STN、CSTN液晶用玻璃板

（2）处理目的：ITO膜蚀刻，干燥

（3）玻璃尺寸： 14″×16″，17″，T=0.4、0.55、0.7、1.1mm

（4）篮子规格：贵公司提供

（5）基板传送方向：从左到右，或从右到左

（6）设备外形尺寸：约11380×1400×1650mm

（7）干燥重量：约7000Kg

（8）基板传送高度：从地面至基板下面为900mm

（9）传送方式：水平枚叶式传送方式

（10）传送滚轮间距：基本为80mm

（11）处理时间：标准17秒/块；标准传送速度约2.1m/分

（12）启动准备时间：启动后约60分钟

3．外供电源

（1）主机：3相，380V，50Hz，约58kWA

（2）纯水用量：约32L/min，0.15Mpa G，电阻值10MΩ/cm以上

（3）冷却水用量：约0L/min

（4）空气用量：约2500NL/min，0.4～0.5Mpa G，洁净干燥气

脱膜设备

1．设备概要

本设备通过使用碱性脱膜液去除光刻胶，之后有喷淋、风刀等除液单元。脱膜液浓度、处理等具体规格需和用户具体商定。需根据溶液中的光刻胶含有率，定期更换液体。

2．设备规格

（1）处理对象：STN、CSTN液晶用玻璃板

（2）处理目的：光刻胶脱膜、干燥

（3）玻璃尺寸：14″×16″，17″，T=0.4、0.55、0.7、1.1mm

（4）篮子规格：贵公司提供

（5）基板传送方向：从左到右，或从右到左

（6）设备外形尺寸：约9360×1400×1650mm

（7）干燥重量：约5000Kg

（8）基板传送高度：从地面至基板下面为900mm

（9）传送方式：水平枚叶式传送方式

（10）传送滚轮间距：基本为80mm

（11）处理时间：标准17秒/块，标准传送速度约2.1m/分钟

（12）启动准备时间：启动后约60分钟

3．外供电源

（1）主机：3相，380V，50Hz，约80kWA

（2）纯水用量：约32L/min，0.15Mpa G，电阻值10MΩ/cm以上

（3）冷却水用量：约0L/min

（4）空气用量：约2500NL/min，0.4～0.5Mpa G，洁净干燥气

显影设备

1．设备概要

为达到均匀显影的效果，本设备通过通过SlitSW进行显影，然后通过Swing SW加强显影效果，最后使用喷淋和风刀去除液体。须根据液体中的光刻胶含有率情况，定期更换液体。

2．设备规格

（1）处理对象：STN液晶用玻璃板

（2）处理目的：光刻胶显影、干燥

（3）对象尺寸等：14″×16″，17″，T=0.4、0.55、0.7、1.1mm

（4）篮子规格：贵公司提供

（5）基板传送方向：从左到右，或从右到左

（6）设备外形尺寸：约7270×1400×1650mm

（7）干燥重量：约4200Kg

（8）基板传送高度：从地面至基板下面为900mm

（9）传送方式：水平枚叶式传送方式

（10）传送滚轮间距：基本为80mm

（11）处理时间：标准17秒/块，标准传送速度约2.1m/分钟

（12）启动准备时间：启动后约60分钟

3．外供电源

（1）主机：3相，380V，50Hz，约30kWA

（2）合计：约30kVA

（3）纯水用量：约32L/min，0.15Mpa G，电阻值10MΩ/cm以上

（4）冷却水用量：约0L/min

（5）空气用量：约2100NL/min，0.4～0.5Mpa G，洁净干燥气