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產(chǎn)品型號：Tergeo
產(chǎn)品代碼：Tergeo
產(chǎn)品價(jià)格：100000
產(chǎn)品編碼：Tergeo
計(jì)量單位：套
折 扣 率： 9
最后更新：2016-12-27
關(guān) 注 度：4860
生產(chǎn)企業(yè)：武漢邁可諾科技有限公司
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產(chǎn)品詳細(xì)介紹【簡單介紹】
一、Tergeo系列等離子清洗機(jī)應(yīng)用
等離子清洗機(jī)清除樣品表面的污染物，去除光阻膠：產(chǎn)生表面活性功能組；
清洗提高材料表面親水性及疏水性，清洗生物芯片、微流控芯片，PDMS；
表面活化：渲染表面的親水性或疏水性，鍵合和沉積前的表面預(yù)處理
表面聚合：沉積帶官能分子團(tuán)的聚合物，移植聚合物到活化后的材料表面；
表面改性：在材料表面產(chǎn)生官能分子團(tuán)，高分子材料表面修飾；
去除表面殘留微生物，醫(yī)療器械的消毒和【詳細(xì)說明】
二、Tergeo系列等離子清洗機(jī)的特點(diǎn)
1、13.56MHz高頻射頻發(fā)生器；
2、7英寸觸摸屏控制界面，全自動操作；
3、標(biāo)配75W版本，可選150W版本；
4、系統(tǒng)具有雙等離子源。浸入式等離子源用于主動表面處理、光刻膠蝕刻。遠(yuǎn)程式等離子源用于溫和的污染清除以及脆弱易損樣品的表面活化。
三、技術(shù)參數(shù)
1、控制系統(tǒng)
1）操作界面：7英寸電阻觸摸屏操作界面，支持多種工作方式。
2）程序控制：可編程，總共有20個(gè)程序，每個(gè)程序有3個(gè)清潔步驟。
2、反應(yīng)腔體
1）腔體材質(zhì)：圓柱形石英玻璃艙；
2）腔體容積：2.6L；
3）腔體尺寸：內(nèi)徑：110毫米，深度：280毫米。
3、射頻電源
1）射頻頻率：13.56MHz；
2）射頻功率：標(biāo)配0~75W；從0瓦到75瓦之間以1瓦間距連續(xù)可調(diào)，可選0~150W；。
4、等離子源
1）等離子強(qiáng)度探測器實(shí)時(shí)測量等離子源強(qiáng)度。
2）外置電極設(shè)計(jì)，高壓電極不合等離子接觸以避免金屬濺射造成的樣品污染。
5、氣體控制
1）氣路控制：標(biāo)配一路MFC；可選配三路MFC；
2）質(zhì)量流量計(jì)可以在0~100sccm之間精確控制氣體流量；
3）一路(Venting and purging)氣體入口用來快速給樣品室放氣和沖走殘余處理氣體
客服熱線：4008800298-8843 18221354817 Email: taran_zhao@mycro.com.cn
主營產(chǎn)品：勻膠機(jī)，旋涂儀，甩膠臺，勻膠臺，涂層機(jī)，涂膠機(jī)，涂膜機(jī),旋轉(zhuǎn)涂敷儀, HPC,PPC, PAC，SCE系列等離子清洗機(jī)， Cargille光學(xué)試劑，光刻機(jī)/曝光機(jī)，壓力機(jī), 壓片機(jī), 熱壓機(jī)，WABASH熱壓機(jī), CARVER熱壓機(jī),LAURELL勻膠機(jī)、HOT PLATE熱板 烤膠機(jī)
Laurell勻膠機(jī) Harrick等離子清洗機(jī) NDK熱板烤膠機(jī) PlasmaEtch等離子處理系統(tǒng)
Carver手動壓片機(jī) Uvitron紫外固化箱 Novascan紫外臭氧清洗機(jī)
Wenesco/EMS/Unitemp加熱板 Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng) NXQ光刻機(jī)
Anatech等離子系統(tǒng) Wabash/Carver自動壓片機(jī)
公司名稱:邁可諾技術(shù)有限公司
聯(lián)系人：趙先生 4008800298-8843 18221354817 Email: taran_zhao@mycro.com.cn |
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| 會員級別：免費(fèi)會員 |
| 加入時(shí)間：2016-12-27
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